Russlands 11,2 nm EUV-Lithografiesystem: Ein Konkurrent für ASML?
2024-12-23Notebookcheck
Russland entwickelt ein hochmodernes 11,2 nm EUV-Lithografiesystem, das in direkter Konkurrenz zu den etablierten Systemen von ASML steht. Mit einer Wellenlänge von 11,2 nm soll es die Grenzen der Halbleiterfertigung erweitern und die Effizienz steig ...Mehr lesen
