Russland entwickelt ein 11,2 nm EUV-Lithografiesystem, das mit der Technologie von ASML konkurrieren soll
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Russland entwickelt seine eigene EUV-Lithografietechnologie mit einer Wellenlänge von 11,2 nm, im Gegensatz zum etablierten 13,5-nm-Standard von ASML. Das Projekt unter der Leitung des Wissenschaftler ...Mehr lesen
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